NIL Metrologie Service

NIL-Charakterisierung – flexibel als Service nutzbar

Präzise und reproduzierbare Nanoimprint-Lithografie erfordert eine genaue Charakterisierung von Oberflächen, Schichtdicken sowie Mikro- und Nanostrukturen.

Mit langjähriger Erfahrung und modernster Messtechnik bieten wir umfassende Analysen über ein breites Spektrum an Parametern, um Ihr Projekt bestmöglich zu unterstützen.

 

 

Hochgenaue Messtechnik

• Atomic Force Microscope (AFM) – Bruker Dimension Edge: Hochauflösende Oberflächentopografie im Nanometerbereich.
• Optisches Mikroskop – Keyence VHX-5000: Flexible optische Inspektion mit „Deep Focus Imaging“.
• Profilometer – Veeco Dektak 150: Präzise Messung von Stufenhöhen und Schichtdicken.
• Plasmareiniger – Diener NANO: Oberflächenreinigung und -aktivierung für verbesserte Materialhaftung.
• Ellipsometer – Sentech: Messung von Dicke und Brechungsindizes von dünnen Schichten.
• 3D-Laser-Scanning-Mikroskop – Keyence VK-X3000: Hochauflösende 3D-Abbildungen von Mikrostrukturen in Echtfarbe.
• Kontaktwinkel-Messsystem – Krüss DSA100: Analyse von Oberflächenenergie und Benetzbarkeit.
• UV/Vis-Spektrometer: Spektralanalyse von Transmission und Absorption in dünnen Schichten.
• Winkelabhängige Reflexions- und Transmissionsmessung – Eigenentwicklung: Charakterisierung des optischen Verhaltens bei variablen Einfallswinkeln.

 

 

Unser Messtechnik-Service ist speziell auf die Anforderungen der Nanoimprint-Lithografie abgestimmt – von der Substratvorbereitung über die Prozessüberwachung bis hin zur abschließenden Qualitätskontrolle.