BGL-GZ-83: Antihaftschicht für Nanoimprint Lithographie

Fast & easy: Anti Sticking Layer für Nanoimprint-Stempel

Ein kritischer Schritt im Nanoimprint Prozess ist die Trennung von Stempel und Substrat nach dem Aushärten des Fotolackes. Um dies zu Verhindern muss die Oberflächenenergie des Stempels minimiert werden. Normalerweise geschieht dies mit Hilfe eines Anti-Sticking-Layer, der die Oberflächenenergie am Stempel verringert.

Konventionelle Anti-Sticking-Layer müssen in einem aufwendigen Prozess aus der Gasphase auf den Stempel aufgebracht werden (z.B. F13TCS), wofür aufwendige Versuchsaufbauten notwendig sind. Im Gegensatz dazu wird für die Anwendung von einem BGL-GZ-83 Anti-Sticking-Layer nur ein Spin Coater benötigt, um eine Beschichtung herzustellen, die für Imprints von bis zu sub100nm geeignet ist.

Der größte Vorteil von BGL-GZ-83 ist die schnelle und einfache Anwendung, da die Schicht in wenigen Minuten auf dem Stempel aufgetragen ist. Dazu wird der Stempel im Spin Coater befestigt, BGL-GZ-83 aufgetragen und anschließend geschleudert. Ein weiterer Vorteil ist, dass dies unter normaler Raumtemperatur und Luft geschehen kann.

Abhängig vom Fotolack und der Säuberung des Stempels haltet eine Beschichtung BGL-GZ-83 mehr als 50 Imprints stand.