Top-down: Nanoimprint Lithographie

Nanoimprint Lithographie – Nanostrukturen in Grundlagenforschung und Anwendung

Nanostrukturierung mittels Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine neue Technologie, die die großflächige und kostengünstige Herstellung von Nanostrukturen erlaubt. Eine der wesentlichen Herausforderungen der Nanotechnologie ist die Massenproduktion. Insbesondere kleine und mittlere Unternehmen können teure Produktionsanlagen meist nicht finanzieren. Die Nanoimprint Lithographie bietet hier eine kostengünstige und flexible Möglichkeit der Serienfertigung.

Prinzip der Nanoimprint Lithographie

Beim NIL-Verfahren wird ein (nano-)strukturierter Stempel unter genau definierten Bedingungen in einem Polymer abgeformt und ausgehärtet. Abschließend werden Stempel und Substrat getrennt. Nun kann die übertragene Nanostruktur entweder direkt verwendet werden oder Prozessschritte mit der strukturierten Oberfläche gesetzt werden. Das NANO-Team der PROFACTOR Gruppe verwendet dafür UV-NIL-Prozesse, bei denen das Polymer durch Bestrahlen mit UV-Licht härtet.

Die Vorteile der Nanoimprint Lithographie liegen vor allem in der sehr hohen Auflösung, die praktisch nur durch die Auflösung des Stempels begrenzt ist, im hohen Prozessdurchsatz bei gleichzeitiger gesteigerter Kosteneffizienz und in der enormen Flexibilität des Prozesses. Mittels NIL können Strukturen erzeugt werden, die mit konventionellen optischen Lithographiemethoden nur unter sehr großem tech-
nischem und finanziellem Aufwand herstellbar sind.

Unseren Kunden bieten wir die Auswahl und Herstellung von Nanostrukturen für ihre spezielle Anwendung, UV-NIL-Prozessentwicklung und Optimierung von
Produktionsanlagen, Entwicklung und Evaluierung von Materialien für NIL wie
zum Beispiel Polymere, Materialien und Produkte für NIL wie zum Beispiel Antihaftschichten, aber auch die Herstellung von Arbeitsstempeln.