Innovation

In NILdirect_stamp wird Partikelstrahlen basiertes Prozessieren zusammen mit neuen Hartmasken und Simulationsmethoden verwendet, um einen schnellen und kosteneffektiven Prozess mit hoher Auflösung für die Herstellung von komplexen Nanoimprint Stempeln zu etablieren, der die Nachfrage nach der kostengünstigen Fertigung von NIL Stempeln befriedigt.

Für Nanoimprint Anwender oder Hersteller von Nanoimprint Stempeln, die unzufrieden sind mit den existierenden Methoden Stempel herzustellen, wird das Ergebnis des Projektes eine Stempelherstellungsmethode sein, die hohe Auflösung, hohen Durchsatz und die Möglichkeit komplexe mehrlagige Strukuren herzustellen bietet.

Im Gegensatz zu Elektronenstrahllithographie, besteht dann die Möglichkeit direkt Stempel zu schreiben und auch komplexe mehrlagige, aber auch dreidimensionale Strukturen herzustellen.

Zusammenfassung und Ergebnisse

Das ehrgeizige Ziel von NILdirect_stamp ist es,einen masken- und resistlosen Herstellungsprozess für Nanoimprint Stempel zu entwickeln. Dieser soll auf direkter Deposition und direktem Ätzen von Material mittels geladenen Partikeln basieren. PMLP (Projection Mask-Less Patterning), eine hochparallele Strukturiereungstechnologie mit geladenen Teilchen wird es hochpräzises Ätzen und Abscheiden erlauben, entwedeer einer nanostrukturierten Hartmaske oder des Stempels selbst. Die Möglichkeit metallische und dielektrische Nanostrukturen (<20nm) und sogar komplexe 3D Strukturen direkt auf beliebigen Oberflächen herzustellen wird ein herausragender Durchbruch für die Herstellung von Nanoimprint Stempeln sein.

Die Herausforderungen in diesem Projekt sind:

• Einen maskenlosen, direct-write Prozess mit vielen parallelen Partikelstrahlen zu entwickeln
• Ein parallels Ionenstrahlen Tool für die Herstellung von NIL Stempeln zu adaptieren
• Eine neue Hartmasken Technology samt Ätzprozessen zu entwickeln
• Einen Imprint Prozess mit diesen Stempeln zu etablieren